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佳能光刻机突破2nm制程？
作者：编辑 来源：未知 时间：2024-1-9
| ☞ 2023年12月25日，佳能半导体机器业务部长岩本和德表示，佳能采用纳米压印技术的光刻机有望生产2nm芯片， 且成本可以降至传统光刻设备的一半。在岩本和德发声的4天以前，ASML宣布，已向英特尔交付了全球首台High NA （高数值孔径）EUV（极紫外）光刻系统，支持2nm制程及以下工艺的芯片制造。 ☞ 同样以2nm制程工艺为目标，ASML与佳能却提出了两种不同的技术路径。。 ☞ ASML通过提升光刻机数值孔径，增强芯片的制造精度、性能和稳定性，将光刻技术延续到2nm及以下制程的应用中。 ☞ 佳能则尝试以纳米压印技术制造2nm芯片。 |
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刘冬
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金万河
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