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英特尔1.4纳米芯片制造工艺首次亮相_行业动态_上海飓亚电子科技有限公司
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英特尔1.4纳米芯片制造工艺首次亮相
作者:编辑 来源:未知 时间:2024-2-22
☞
2
月
22
日,英特尔
CEO
帕特
·
基辛格在美国圣何塞举行的
Intel Foundry Direct Connect
大会上发布了最新代工进展,包括全新制程技术路线图以及新的客户和生态伙伴合作,并表达了其在
2030
年成为全球第二大代工厂的愿景。
☞
英特尔首次公布了
14A
(
1.4nm
)以及其演进版本
14A-E
。英特尔预计在
2027
年前开发出
14A
,并将在该制程节点上首次采用高数值孔径光刻机。
☞
会上还公布了
Intel3
、
Intel 18A
及
Intel 14A
技术的演进版本。
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